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供应单晶硅、多晶硅、硅片表面活化等离子清洗机

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    用途:

  用于去除基片表面刻蚀工艺过程中作为刻蚀材料保护膜的光刻胶掩膜,也可用于基片表面其它有机物的等离子体清洗。

 
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